Samsung anuncia sus procesos de fabricación a 11 nm LPP y 7 nm LPP con luz UVE
Samsung mantiene su avance imparable en el terreno de los semiconductores al anunciar dos nuevos procesos de fabricación para sus fundiciones. Todas las compañías están haciendo la transición al proceso de fabricación basado en la litografía ultravioleta extrema (UVE) que sine lla es difícil que se puedan crear chips con transistores de 7 nm o menos. Actualmente se usan patrones múltiples para crear los chips entre 10 y 14 nm.
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