Logo Geektopía

Geektopia

Tecnología y entretenimiento

Etiqueta: Litografías

La productividad de las obleas de HBM3E de CXMT podría ser de solo el 25 %

La productividad de las obleas de HBM3E de CXMT podría ser de solo el 25 %
Avatar david david

Los medios surcoreanos y taiwaneses no suelen ser los más fiables cuando hablan sobre la competencia de las principales empresas de sus países, que son Samsung y TSMC. Así que el que el medio surcoreano Chosun asegure que CXMT, la fuerte competencia china de Samsung en la producción de chips de memoria, pueda estar teniendo problemas con la productividad de los chips de HBM3E no es lo más fiable del mundo. Realmente, incluso aunque fuera tan baja daría igual en el contexto actual.

Sigue leyendo

Intel asegura que la tasa de defectos de la litografía 14A está reduciéndose más rápido de lo esperado

Intel asegura que la tasa de defectos de la litografía 14A está reduciéndose más rápido de lo esperado
Avatar david david

Intel Foundry está teniendo cierto éxito con su litografía de 1.8 nm (18A), y ha estado mejorando sus resultados trimestrales, pero sigue generándole pérdidas a Intel. Todo está fiado a la litografía de 1.4 nm (14A), con la que ha asegurado haber captado el interés de diseñadores importantes de chips. Los rumores apuntan a NVIDIA o AMD entre ellos. Lo que ha querido su director financiero, David Zisner, es que su desarrollo va perfectamente y que además la tasa de defectos está descendiendo más rápido de lo que esperaban paracada punto de su desarrollo.

Sigue leyendo

Samsung Foundry retrasa la adopción de la maquinaria de luz UVE de alta AN hasta 2030

Samsung Foundry retrasa la adopción de la maquinaria de luz UVE de alta AN hasta 2030
Avatar david david

El último lustro de Samsung Foundry ha sido generalmente malo, y solo está saliendo ahora del hoyo en el que está por la fiebre de la inteligencia artificial. Con los precios que pide TSMC por sus obleas fabricadas con litografías punteras, una oblea barata con la litografía de 3 nm de Samsung Foundry sale muy rentable, tenga la productividad que tenga. Así que en ese recorte de costes que está buscando Samsung para buscar clientes, ha optado por retrasar la adopción de la maquinaria de luz UVE de alta apertura numérica de ASML hasta 2030.

Sigue leyendo

Intel Foundry adelanta el lanzamiento de la litografía de 1.4 nm a 2028

Intel Foundry adelanta el lanzamiento de la litografía de 1.4 nm a 2028
Avatar david david

Intel ha tenido durante dos décadas un problema de liderazgo ya que puso al mando a gente que realmente no entendían la importancia de las litografías en el trabajo de la compañía. Principalmente, sus directores ejecutivos fueron economistas. Al poner a Pat Gelsinger al mando, un ingeniero que sí lo entendía, viró hacia un modelo de fundición de chips, o dicho de otra forma, que produjeran chips para terceros. Lip-Bu Tan heredó ese modelo y lo ha continuado tras el despido de Gelsinger por motivos espurios. De momento van las cosas bien, y ahora Intel ha tomado la decisión de acelerar la implantación del proceso de 1.4 nm (14A) en un año.

Sigue leyendo

Intel es la primera en producir en masa con los escáneres de luz UVE de alta AN fabricados por ASML

Intel es la primera en producir en masa con los escáneres de luz UVE de alta AN fabricados por ASML
Avatar david david

Intel empezó la rampa de producción de los procesadores Panther Lake a finales del año pasado, y ha necesitado más de seis meses para iniciar la producción en masa. O sea, el objetivo real de producción aprovechando todas las líneas de producción. Es un tiempo razonable en el sector, en línea con la rampa de producción de TSMC o Samsung, por lo que ahí no hay ningún problema. Donde lo hay es en el tipo de máquina utilizada, ya que ha empleado los escáneres de luz ultravioleta extrema (UVE) de alta apertura numérica (AN), las cuales son máquinas de en torno a los 400 millones de dólares cada una.

Sigue leyendo

Rapidus ofrecerá las obleas fabricadas a 2 nm a 20 000 dólares, bastante menos que TSMC

Rapidus ofrecerá las obleas fabricadas a 2 nm a 20 000 dólares, bastante menos que TSMC
Avatar david david

Rapidus es la opción japonesa de tener una producción propia de chips con litografías punteras, y parece que va todo viento en popa. El proyecto se inició en 2022 y la producción en masa comenzará en 2027. En su lugar, la Unión Europea, con más músculo económico pero menos músculo cerebral, ha preferido invertir en gilipolleces: armamento para ir de cabeza a la tercera guerra mundial ante una amenaza inexistente, en que los móviles se vendan solo con USB-C y que los tapones de las botellas no se puedan separar de ellas. Pero es que además Rapidus va a competir con TSMC en precio, lo cual me parece magnífico.

Sigue leyendo

Intel habría solucionado sus problemas con la productividad de la litografía 18A

Intel habría solucionado sus problemas con la productividad de la litografía 18A
Avatar david david

El inicio de la producción en masa de una nueva litografía no se hace hasta que la productividad de las obleas alcance un umbral en el que la compañía al menos no pierda dinero con la producción. Esa productividad es básicamente el porcentaje de chips viables sobre el total que puede contener la oblea. Siempre dijeron los medios taiwaneses que Intel estaba teniendo problemas con la productividad del 18A porque, bueno, TSMC es taiwanesa y no quieren que su principal empresa tenga competencia. Pero según la firma BlueFin Research Partners, Intel ya habría conseguido una productividad elevada tras solventar los problemas de la litografía 18A.

Sigue leyendo

EE. UU. sospecha que un escáner de luz UVE de ASML pudo llegar a China pese al veto

EE. UU. sospecha que un escáner de luz UVE de ASML pudo llegar a China pese al veto
Avatar geekstaff geekstaff

Estados Unidos lleva años prohibiendo a ASML vender a China sus escáneres de luz ultravioleta profunda (UVE), las más avanzadas, para que el país no pueda fabricar fácilmente chips con litografías punteras. Ahora la Administración Trump sospecha que una de esas máquinas podría haber acabado allí de todos modos. El secretario de Comercio, Howard Lutnick, preguntó en abril a la dirección de ASML si eso pude haber ocurrido igualmente.

Sigue leyendo

Una empresa china crea chips fotónicos mediante nanoimpresión reduciendo costes

Una empresa china crea chips fotónicos mediante nanoimpresión reduciendo costes
Avatar david david

Una parte de la producción actual de chips se hace mediante la tradicional litografía, pero otra parte se hace mediante técnicas de impresión. Por ejemplo, Canon ha invertido mucho dinero en desarrollar nanoimpresión de semiconductores para competir con ASML en coste. Retomando ese tipo de trabajos previos, nada novedosos, la china Prinano ha optado por aplicarlo a la fabricación de chips fotónicos, o que usan luz para procesar y transmitir infomación.

Sigue leyendo

Huawei afirma que gracias a sus avances podrá fabricar chips a 1.4 nm sin equipamiento de ASML

Huawei afirma que gracias a sus avances podrá fabricar chips a 1.4 nm sin equipamiento de ASML
Avatar david david

Huawei fue de las primeras compañías en ser sancionadas por EUA debido a sus supuestos estrechos lazos con el Ejército chino, como si cualquier compañía tecnológica estadounidense no tuviera estrechos lazos con el Ejército estadounidense. Pero con la tontería de Trump y Biden, se ha acelerado a la velocidad de la luz el desarrollo de tecnología litográfica china. Por eso Huawei ahora afirma que va a ser capaz de producir chips a 1.4 nm en 2031, lo cual sería apenas un par de años después que las compañías occidetanles.

Sigue leyendo