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Etiqueta: Litografías

La densidad de defectos de la litografía N2 de TSMC es menor que la que tuvo el N3 en el mismo punto de desarrollo

La densidad de defectos de la litografía N2 de TSMC es menor que la que tuvo el N3 en el mismo punto de desarrollo
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TSMC ha dado detalles esta semana de varios de sus procesos litográficos, y ha tenido tiempo para hablar del desarrollo de su litografía de 2 nm (N2). Es el primer proceso en el que usa los transistores de efecto de campo de puerta envolvente (GAAFET), lo cual va a proporcionar una mejora sustancial de rendimiento. Pero más allá de eso, de cara a sus clientes es más importante la tasa de defectos o densidad de defectos por oblea, de cual ha sido que en el N2 es menor que en el proceso de 3 nm (N3) en su punto actual de desarrollo.

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TSMC habla de su litografía de 1.4 nm, salto generacional respecto a los 2 nm, estará lista para 2028

TSMC habla de su litografía de 1.4 nm, salto generacional respecto a los 2 nm, estará lista para 2028
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TSMC sigue liderando el sector de la producción de semiconductores con sus litografías, y teniendo en cuenta que los primeros chips fabricados a 2 nm (N2) están al caer, el siguiente paso será será el de 1.6 nm (A16), y una evolución en forma del proceso de 1.4 nm (A14). La compañía ha hablado de este proceso litográfico indicando que será un salto generacional, por lo que no será una versión mejorada del de 2 nm. Eso significa que promete mejoras sustanciales, aunque quizás no tanto como muchos esperarían.

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Samsung habría iniciado el desarrollo su litografía a 1 nm, que estaría lista para 2029

Samsung habría iniciado el desarrollo su litografía a 1 nm, que estaría lista para 2029
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Samsung Foundry está teniendo bastantes problemas a la hora de atraer clientes a sus procesos litográficos punteros, y eso es un hecho y no un rumor. La compañía ha estado haciendo cambios en su organigrama para ver si consiguen reorientar la empresa. Lo que sí son rumores es que habría reducido la inversión en nueva maquinaria para expandir la parte de fabricación de chips lógicos. La de chips de memoria sigue yendo viento en popa porque se basa en litografías avanzadas, pero no punteras. Pero el desarrollo de nuevas litografías seguiría su rumbo porque habría empezado a desarrollar activamente la de 1 nm.

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China desarrolla su primer escáner litográfico de luz UVE

China desarrolla su primer escáner litográfico de luz UVE
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China ha avanzando mucho en los últimos cinco años hacia una independencia en la producción de chips, pero todavía se le resisten las litografías más punteras. Actualmente Huawei cuenta con maquinaria propia para producir chips a 14 nm o incluso menos, aunque los planes de la compañía y de China en general en producción de chips son opacos para evitar las sanciones estadounidenses. Es raro que haya trascendido una maquinaria que Huawei ha desarrollado para producir chips usando luz ultravioleta extrema (UVE), una tecnología imprescindible para poder alcanzar la producción de chips por debajo de los 5 nm.

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Intel ya ha procesado 30 000 obleas con su maquinaria de alta NA en sus pruebas de diseño

Intel ya ha procesado 30 000 obleas con su maquinaria de alta NA en sus pruebas de diseño
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Intel ha sido la que primeramente consiguió tener instalado un escáner litográfico de alta apertura numérica (NA), que son equipos especialmente caros. Cada uno cuesta más del doble que uno de luz ultravioleta normal con un coste estimado de 350 millones de euros. Así que ha tenido más tiempo que otras compañías para probar su funcionamiento, prácticamente un año entero, en el que solo en el último trimestre ya ha procesado más de 30 000 obleas.

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Intel alcanza la misma densidad de la SRAM que TSMC en su litografía 18A, y tiene otras ventajas adicionales

Intel alcanza la misma densidad de la SRAM que TSMC en su litografía 18A, y tiene otras ventajas adicionales
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Intel puso el año pasado toda su atención en el proceso litográfico 18A, supervisado principalmente por su exdirector ejecutivo Pat Gelsinger, y canceló el desarrollo del 20A por ser demasiado similar. Eso significa que Intel se juega su futuro con el 18A, y las informaciones que van llegando son bastante prometedoras. Su único competidor real será el de 2 nm de TSMC, y frente a este la compañía ha dicho durante el ISSCC que tendrá una densidad de bits similar en la parte de la SRAM.

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Rapidus instalará 10 escáneres de luz UVE en su fábrica de Japón

Rapidus instalará 10 escáneres de luz UVE en su fábrica de Japón
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Las tensiones geoestratégicas que están acarreando las sanciones de EUA a China está llevando a todos los principales países a invertir mucho más en producción de chips. Entre ellos Japón, cuya inversión gubernamental se está encauzando con Rapidus, una empresa que tiene la intención de empezar a producir chips en masa a 2 nm a partir de 2027, aunque se espera que este año empiecen las pruebas. Si todo va bien en el desarrollo, claro está, aunque el diseño del primer proceso litográfico lo tienen cerrado. Cuestión aparte será la productividad que tenga. Sea como sea, para ello usará escáneres de luz ultravioleta extrema, de al menos 300 millones la unidad, y aparentemente ha comprado inicialmente diez de ellos.

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La segunda mayor fundición de chips de China ficha a un ejecutivo de Intel como su presidente

La segunda mayor fundición de chips de China ficha a un ejecutivo de Intel como su presidente
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Para que China pueda evolucionar su sector de los semiconductores no le queda más remedio que contratar talento extranjero. Eso ha llevado a fuertes choques con los gobiernos de medio Occidente, e incluso ha habido denuncias de robo de secretos industriales por los contratados por empresas chinas, y alguna condena que otra. Así que ante la situación en la que está Intel, abre la veda de contratación de ejecutivos, y es lo que ha hecho Hua Hong Semiconductor, la segunda mayor fundición de China.

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El precio de las obleas punteras de TSMC se triplicó en once años, y la tendencia seguirá

El precio de las obleas punteras de TSMC se triplicó en once años, y la tendencia seguirá
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Uno de los datos menos conocidos en el sector de los semiconductores es el coste de las obleas producidas a distintos procesos litográficos. Es habitual hacer estimaciones, pero nunca se tiene información directa de TSMC, Samsung Foundry u otros porque al final el precio es muy distinto en clientes. No es lo mismo Apple, que invierte cientos de millones en TSMC para que expanda su producción además de ser su principal cliente, que otro que solo pide unas decenas de miles de obleas producidas. Cuando la producción está al límite, también hay un proceso de subasta de capacidad de producción que desvirtúa el precio. Pero las estimaciones que se hacen siguen apuntan a que el coste de una oblea puntera está cerca de 20 000 dólares, y eso es así desde hace unos años.

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TSMC se prepara para iniciar la producción en masa a 2 nm

TSMC se prepara para iniciar la producción en masa a 2 nm
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TSMC está preparándose para la producción en masa con su proceso litográfico de 2 nm para cubrir las necesidades de su principal cliente, Apple, que es el único que puede pagar por la exclusividad inicial por sus abultados márgenes de beneficio del treinta por ciento en sus productos. De momento estaría ultimando la primera producción de prueba de un diseño de producto comercial, para cumplir con la producción en masa durante este primer trimestre de 2025.

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