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Etiqueta: Litografías

En plena fiebre de la IA, algunos clientes de ASML quieren hacer pedidos para 2029 e incluso 2030

En plena fiebre de la IA, algunos clientes de ASML quieren hacer pedidos para 2029 e incluso 2030
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La fiebre de la IA ha disparado las inversiones de los fabricantes de chips, y ASML es la única empresa que fabrica escáneres de luz ultravioleta extrema (UVE), imprescindibles para las litografías más avanzadas. Durante la presentación de resultados del tercer trimestre, su director ejecutivo, Christophe Fouquet, ha dicho que sus clientes esperan que la demanda de los chips que fabrican supere a la oferta al menos hasta 2028, y que algunos ya quieren hacer pedidos para 2029 e incluso 2030.

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Ocho grandes compañías de EUA se estarían planteando usar el proceso 14A de Intel

Ocho grandes compañías de EUA se estarían planteando usar el proceso 14A de Intel
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Intel necesita clientes externos para la litografía de 1.4 nm (14A), ya que Lip-Bu Tan advirtió el año pasado de que podría dejar de desarrollarla, junto con las siguientes litografías punteras, si no conseguía un cliente importante. Ahora, según una nota del banco de inversión Piper Sandler, habría ocho grandes empresas (Amazon, Apple, AMD, Google, Tesla, Microsoft, NVIDIA y Qualcomm) probando el nodo. Ninguna de ellas se ha comprometido públicamente a fabricar con él, y que lo estén evaluando no significa que vayan a firmar un contrato de producción.

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La productividad de las obleas de HBM3E de CXMT podría ser de solo el 25 %

La productividad de las obleas de HBM3E de CXMT podría ser de solo el 25 %
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Los medios surcoreanos y taiwaneses no suelen ser los más fiables cuando hablan sobre la competencia de las principales empresas de sus países, que son Samsung y TSMC. Así que el que el medio surcoreano Chosun asegure que CXMT, la fuerte competencia china de Samsung en la producción de chips de memoria, pueda estar teniendo problemas con la productividad de los chips de HBM3E no es lo más fiable del mundo. Realmente, incluso aunque fuera tan baja daría igual en el contexto actual.

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Intel asegura que la tasa de defectos de la litografía 14A está reduciéndose más rápido de lo esperado

Intel asegura que la tasa de defectos de la litografía 14A está reduciéndose más rápido de lo esperado
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Intel Foundry está teniendo cierto éxito con su litografía de 1.8 nm (18A), y ha estado mejorando sus resultados trimestrales, pero sigue generándole pérdidas a Intel. Todo está fiado a la litografía de 1.4 nm (14A), con la que ha asegurado haber captado el interés de diseñadores importantes de chips. Los rumores apuntan a NVIDIA o AMD entre ellos. Lo que ha querido su director financiero, David Zisner, es que su desarrollo va perfectamente y que además la tasa de defectos está descendiendo más rápido de lo que esperaban paracada punto de su desarrollo.

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Samsung Foundry retrasa la adopción de la maquinaria de luz UVE de alta AN hasta 2030

Samsung Foundry retrasa la adopción de la maquinaria de luz UVE de alta AN hasta 2030
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El último lustro de Samsung Foundry ha sido generalmente malo, y solo está saliendo ahora del hoyo en el que está por la fiebre de la inteligencia artificial. Con los precios que pide TSMC por sus obleas fabricadas con litografías punteras, una oblea barata con la litografía de 3 nm de Samsung Foundry sale muy rentable, tenga la productividad que tenga. Así que en ese recorte de costes que está buscando Samsung para buscar clientes, ha optado por retrasar la adopción de la maquinaria de luz UVE de alta apertura numérica de ASML hasta 2030.

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Intel Foundry adelanta el lanzamiento de la litografía de 1.4 nm a 2028

Intel Foundry adelanta el lanzamiento de la litografía de 1.4 nm a 2028
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Intel ha tenido durante dos décadas un problema de liderazgo ya que puso al mando a gente que realmente no entendían la importancia de las litografías en el trabajo de la compañía. Principalmente, sus directores ejecutivos fueron economistas. Al poner a Pat Gelsinger al mando, un ingeniero que sí lo entendía, viró hacia un modelo de fundición de chips, o dicho de otra forma, que produjeran chips para terceros. Lip-Bu Tan heredó ese modelo y lo ha continuado tras el despido de Gelsinger por motivos espurios. De momento van las cosas bien, y ahora Intel ha tomado la decisión de acelerar la implantación del proceso de 1.4 nm (14A) en un año.

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Intel es la primera en producir en masa con los escáneres de luz UVE de alta AN fabricados por ASML

Intel es la primera en producir en masa con los escáneres de luz UVE de alta AN fabricados por ASML
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Intel empezó la rampa de producción de los procesadores Panther Lake a finales del año pasado, y ha necesitado más de seis meses para iniciar la producción en masa. O sea, el objetivo real de producción aprovechando todas las líneas de producción. Es un tiempo razonable en el sector, en línea con la rampa de producción de TSMC o Samsung, por lo que ahí no hay ningún problema. Donde lo hay es en el tipo de máquina utilizada, ya que ha empleado los escáneres de luz ultravioleta extrema (UVE) de alta apertura numérica (AN), las cuales son máquinas de en torno a los 400 millones de dólares cada una.

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Rapidus ofrecerá las obleas fabricadas a 2 nm a 20 000 dólares, bastante menos que TSMC

Rapidus ofrecerá las obleas fabricadas a 2 nm a 20 000 dólares, bastante menos que TSMC
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Rapidus es la opción japonesa de tener una producción propia de chips con litografías punteras, y parece que va todo viento en popa. El proyecto se inició en 2022 y la producción en masa comenzará en 2027. En su lugar, la Unión Europea, con más músculo económico pero menos músculo cerebral, ha preferido invertir en gilipolleces: armamento para ir de cabeza a la tercera guerra mundial ante una amenaza inexistente, en que los móviles se vendan solo con USB-C y que los tapones de las botellas no se puedan separar de ellas. Pero es que además Rapidus va a competir con TSMC en precio, lo cual me parece magnífico.

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Intel habría solucionado sus problemas con la productividad de la litografía 18A

Intel habría solucionado sus problemas con la productividad de la litografía 18A
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El inicio de la producción en masa de una nueva litografía no se hace hasta que la productividad de las obleas alcance un umbral en el que la compañía al menos no pierda dinero con la producción. Esa productividad es básicamente el porcentaje de chips viables sobre el total que puede contener la oblea. Siempre dijeron los medios taiwaneses que Intel estaba teniendo problemas con la productividad del 18A porque, bueno, TSMC es taiwanesa y no quieren que su principal empresa tenga competencia. Pero según la firma BlueFin Research Partners, Intel ya habría conseguido una productividad elevada tras solventar los problemas de la litografía 18A.

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EE. UU. sospecha que un escáner de luz UVE de ASML pudo llegar a China pese al veto

EE. UU. sospecha que un escáner de luz UVE de ASML pudo llegar a China pese al veto
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Estados Unidos lleva años prohibiendo a ASML vender a China sus escáneres de luz ultravioleta profunda (UVE), las más avanzadas, para que el país no pueda fabricar fácilmente chips con litografías punteras. Ahora la Administración Trump sospecha que una de esas máquinas podría haber acabado allí de todos modos. El secretario de Comercio, Howard Lutnick, preguntó en abril a la dirección de ASML si eso pude haber ocurrido igualmente.

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