Los escáneres litográficos son el único arma competitiva que tiene la Unión Europea en el sector de la producción de chips, porque no tenemos ninguna fundición de chips que use litografías punteras. Esta compañía neerlandesa ha anunciado un gran avance en su I+D que permitirá usar fuentes de luz de hasta 1000 W en sus futuros escáneres litográficos, lo cual significa que serán escáneres litográficos que consuman un 50 % más, lo cual abunda con la locura de consumos del sector de las IA. Aunque este gran avance y las IA están estrechamente relacionados.
Además, el director de desarrollo de ASML ha dicho que esto lo conseguirán para 2030, y que han abierto el camino para desarrollar fuentes de luz de 1500 W. La potencia de la fuente de luz es la que determina la capacidad y calidad con que se transfiere el patrón de los fotolitos al material fotosensible. Cuanta mayor potencia, mejor se hace la transferencia, y menos tiempo se tarda en ello.
Así que la potencia de 1000 W afecta a la velocidad de producción de obleas y ayuda a minimizar la cantidad de defectos que se producen por oblea durante todo el proceso de transferencia, que implica la transferencia de patrones en decenas de capas. Lo cual, todo sea dicho, permite que se usen por ejemplo películas de peor calidad para abaratar costes manteniendo una tasa de errores menor. Así que al final, entre el aumento de obleas procesadas por hora y la reducción de defectos, permiten un sustancial ahorro económico.
Vía: Tom's Hardware.
