El Simposio VLSI de Tecnología y Circuitos se celebrará en junio y la organización ya tiene preparadas la mayor parte de las conferencias que se van a celebrar. Ha publicado un resumen de ellas, dando solo leves detalles de los avances en semiconductores de los ponentes, pero están recogidos cómodamente en un PDF proporcionado por la organización. Intel hablará de su proceso litográfico 18A, de 1.8 nm, con el que promete un 30 % más de densidad de los chips frente a la litografía de 3 nm.
Se trata de un gran avance gracias a los cambios que ha hecho en los transistores, que son GAAFET, y en la forma de alimentarlos con PowerVia —desde la trasera del chip y no desde el frontal—. Intel proporcionará dos bibliotecas para el diseño de chips, uno de alta densidad y otro de alto rendimiento. En este último ganaría hasta un 25 % más de rendimiento a mismo consumo, o permitiría un 36 % de reducción de consumo a mismo rendimiento. Es una litografía creada bajo la dirección de Pat Gelsinger, y es una pena que le despidieran y que no pueda verla en el mercado. Pero el futuro de Intel Foundry y de Intel dependen de este proceso 18A, aunque de momento no tiene mala pinta.
Vía: WCCFTech.
