Aumenta la demanda de equipamiento para la litografía ultravioleta extrema
Todos los fabricantes de semiconductores están enfrascados en una pequeña guerra por ser el primero en llegar a la producción en masa de los chips a 7 nm. Para ello la mayoría han optado por la técnica litográfica de luz ultravioleta extrema (UVE), y eso requiere de equipamiento especial como el fabricado por la neerlandesa ASML Holding NV.
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