Una parte de la producción actual de chips se hace mediante la tradicional litografía, pero otra parte se hace mediante técnicas de impresión. Por ejemplo, Canon ha invertido mucho dinero en desarrollar nanoimpresión de semiconductores para competir con ASML en coste. Retomando ese tipo de trabajos previos, nada novedosos, la china Prinano ha optado por aplicarlo a la fabricación de chips fotónicos, o que usan luz para procesar y transmitir infomación.
Esta nueva maquinaria se ha desarrollado en colaboración con Shenzhen Litra Technology, una de la miríada de empresas que están creando maquinaria litográfica con dinero del Gobierno chino para la autosuficiencia del país. Cosas de que EE. UU. se creía Dios con las sanciones económicas a China y más bien ha resultado ser el diablo, disparando el desarrollo en semiconductores de China, que está ya a solo tres años por detrás en tecnología frente a Occidente.
Entre Prinano y Litra, han producido obleas de chips fotónicos de 20 cm, que es menos usado hoy en día que el formato de 30 cm, pero para pruebas puede ser más adecuado. Pero lo importante de la nanoimpresión es que es bastante más barata, aunque más delicada por cómo funciona —contacto directo del molde del chip con la oblea—.
El principal uso de estos chips tiene que ver con el propio intercambio de información entre equipos dentro de un centro de datos. Las actuales conexiones Ethernet son lentas, a pesar de haber aumentado mucho su calidad. Una comunicación directa a través de fibra óptica entre servidores es el objetivo a corto plazo de las empresas del sector. Y para ello necesitan este tipo de chips fotónicos. En algunos casos, están estudiándose incluir esas conexiones directamente en los procesadores.
Vía: Tom's Hardware.
