La guerra tecnológica chino-estadounidense se fundamenta en evitar que China desarrolle procesadores potentes como para crear supercomputadoras con las que desarrolle mejor armamento que el estadounidense. En EUA siempre han creído que China no conseguiría desarrollar procesos litográficos punteros, por lo que evitando el acceso a la maquinaria evitarían el avance de China en este terreno. Pero lo que ha ocurrido es lo contrario, porque se ha espoleado el desarrollo de chips chino, y ahora ya están produciendo a 5 nm cuando hace tres o cuatro años era un posibilidad muy remota.

La necesidad agudiza el ingenio, y por eso Huawei ha anunciado para China un portátil que incluye un procesador Kirin 9006C del que dice que está producido a 5 nm. La única fundición en situación de conseguirlo es SMIC, por lo que su filial HiSilicon no podría más que haber recurrido a ella para producirlo. El Kirin 9000S, que ha sido el procesador que ha demostrado que las sanciones estadounidenses han servido de poco, está producido con una litografía equivalente a los 7 nm.

Que esté produciendo a 5 nm no significa que lo esté haciendo en volumen o que la productividad del proceso litográfico sea alta, pero en ambos casos tiene que poder estar haciéndolo en una buena cantidad. En esta situación, incluso fabricando cinco mil obleas al mes con una productividad del 50 % sería razonable para avanzar en el sector aunque no sea lo ideal. Luego solo hay que dejar que el proceso vaya madurando.

Debido a las sanciones estadounidenses, SMIC ha estado desarrollando procesos litográficos avanzados basados en luz ultravioleta profunda (UVP) en lugar de la ultravioleta extrema (UVE) que se usa generalmente fuera de China. Si TSMC o Intel usan esta maquinaria UVE no es porque con la UVP no se pueda hacer, sino porque simplifica la producción y es más fácil tener una alta productividad de las obleas. Pero con un poco más de paciencia y aceptando unos ciertos sobrecostes, sobre todo por tener que usar aún más la técnica de patrones múltiples en cada capa, los escáneres de luz UVE pueden usarse para producir a 5 nm o menos. Aunque como digo, la productividad, o chips viables extraídos de cada oblea, cae en picado y se necesita más ingenio, tiempo y dinero para mejorarla, y son cosas que a China le sobran.

Vía: Tom's Hardware.