Huawei y SMIC patentan un método de patrones múltiples para crear chips más avanzados sin la maquinaria occidental
25 mar 2024
Las sanciones de EUA a China en el terreno de los semiconductores ha ralentizado su progreso en el terreno de la producción de los propios chips, pero está acelerando el desarrollo de todo lo demás del sector. Eso incluye tanto maquinaria propia como los procesos litográficos, que es lo que ha llevado a Huawei y SMIC a patentar un método de patrones cuádruples para producir chips con una litografía por debajo de los 7 nm.
Sigue leyendo