El último lustro de Samsung Foundry ha sido generalmente malo, y solo está saliendo ahora del hoyo en el que está por la fiebre de la inteligencia artificial. Con los precios que pide TSMC por sus obleas fabricadas con litografías punteras, una oblea barata con la litografía de 3 nm de Samsung Foundry sale muy rentable, tenga la productividad que tenga. Así que en ese recorte de costes que está buscando Samsung para buscar clientes, ha optado por retrasar la adopción de la maquinaria de luz UVE de alta apertura numérica de ASML hasta 2030.
Eso coincidiría ocn el inicio de la producción con su litografía de 1 nm, donde incluso TSMC debería de empezar a usarla. Mientras, en Samsung Foundry tendrán que usar la de luz UVE con técnicas como la de patrones múltiples para crear las capas más avanzadas.
Intel es la única que por ahora está usando esta maquinaria de ASML, pero no en todos los chips producidos a 1.8 nm, solo para algunos diseños en los que necesite la mejora de resolución, de productividad y reducción de tiempo de creación de la oblea. En el de 1.4 nm, Intel hará un uso más extensivo, así que es los márgenes de beneficios los va a mantener bajos frente a TSMC o Samsung Foundry.
Vía: TechPowerUp.
