Intel Foundry está inmersa en su Direct 2025 en la cual está hablando de sus próximos procesos litográficos. Sobre el proceso de 1.4 nm (14A), ya dijo el año pasado que ofrecería hasta un 15 % más de rendimiento que el de 18 A. Ahora indica que este proceso está optimizado con una tecnología de «turboceldas» (turbo cells) que permite reducir sustancialmente el consumo.
Según lo mostrado por la compañía, frente al proceso de 18A permitiría un 25-35 % menos de consumo a mismo rendimiento, o un 15-20 % más de rendimiento por vatio, con una densidad un 30 % mayor. Es una litografía que haría uso de la segunda generación de sus GAAFET, a los cuales les llama RibbonFET, y una mejora de la entrega trasera de energía llamada PowerDirect.
En cuanto a las «turboceldas», lo que ofrecerá Intel Foundry a sus clientes son tres versiones de las celdas con las que se crean físicamente los diseños de los chips, que pueden ser diseños de un inversor, puertas NAND o NOR, etc. Con ellas se crean bloques funcionales que son los que se van uniendo para crear físicamente el diseño del chip desde una herramienta de diseño electrónico asistido por computadora.
Una de las versiones de las turboceldas es para alta frecuencia de funcionamiento, otra para mejorar el rendimiento por vatio, y una tercera para aumentar la densidad. Con lo que juega es con la forma de rodear el canal de los transistores y la posición de las uniones PN. Intel Foundry asegura que en un mismo diseño de chip se pueden mezclar sin problemas los tres tipos de turboceldas —alta, media, y baja, respectivamente según lo que he dicho antes—.
Vía: Tom's Hardware.
