Intel expandirá aún más su inversión en Israel
Intel anunció el pasado febrero que iba a invertir más de 5000 millones de dólares en su fábrica de Israel, o unos 18 000 millones de séqueles, situada en Kiryat Gat. Actualmente la utiliza para chips fabricados con un proceso litográfico de 22 nm, y tiene que actualizar el equipamiento para crear los chips a 10 nm, y más que probablemente para los que lleguen a 10 nm+ de 9.ª generación Ice Lake. Junto a esta inversión inicial, ahora Intel también se ha comprometido a invertir otros 3000 millones de séqueles en proveedores locales necesarios para su planta.
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