A finales de octubre surgieron rumores de que Intel habría cancelado su proceso litográfico de 10 nm para ir directo al de 7 nm, pero eso solo se sabrá a mediados de 2019 o si, antes de entonces, Intel hace algún comentario al respecto. De momento los únicos comentarios que ha hecho es que el proceso de 10 nm sigue adelante, y que los procesadores irán llegando en 2019 al mercado. La compañía lleva un retraso de más de dos años, ya que la producción en masa de chips a 10 nm tendría que haber llegado a mediados de 2016.
El vicepresidente de tecnología y director jefe de ingeniería de Intel, Murthy Renduchintala, ha indicado en la 39 Conferencia de Inversores del Nasdaq que están satisfechos con el progreso en el desarrollo del proceso de 7 nm. Han aprendido mucho de todos sus problemas con el proceso litográfico de 10 nm, sobre todo a la hora de optimiza densidad de transistores, consumo y rendimiento. Sobre estos 10 nm, la producción en masa será según lo planeado —su plan actual, porque cambia cada seis meses...— en 2019 para procesadores generalistas, y los de centros de datos se producirán un poco después.
La compañía usará la litografía con luz ultravioleta extrema (UVE) en el proceso de 7 nm, y que escalará el doble respecto al proceso de 10 nm, lo que podría apuntar a que su uso va a ser generalizado en el proceso de fabricación de las obleas, quizás aplicándose a entre diez a veinte capas, frente a las cuatro que usará inicialmente TSMC en su proceso 7 nm UVE. Pero debido a lo indicado anteriormente, si el desarrollo del proceso litográfico de 7 nm de Intel va según lo planeado, según afirma Intel, el nodo de 10 nm podría tener una vida corta.
Vía: AnandTech.
