Un nuevo escáner litográfico de 28 nm supone un gran avance para China
Es innegable que las sanciones de EUA a China en el terreno de los semiconductores ha hecho cierto daño a la industria del país, pero ha acelerado por cien el desarrollo de equipos y litografías autóctonas, algo con lo que EUA no contaba. En el terreno de las litografías se ha conseguido llegar ya a los 5 nm con maquinaria occidental de luz ultravioleta profunda, mientras que en el de la maquinaria litográfica ya se ha instalado el primer escáner litográfico para producir obleas a 28 nm fabricado íntegramente en China.
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