Intel tiene planes de empezar la producción a 1.8 nm a partir de finales de 2024, aunque la producción en masa se retrase hasta 2025. Para ello necesita empezar la instalación de los escáneres litográficos de luz ultravioleta extrema de alta apertura numérica lo antes posible y, con algún que otro retraso, finalmente ASML le ha enviado el primer escáner de este tipo. El acuerdo entre Intel y ASML hace que vaya a recibir la mayoría de estos escáneres durante 2024, aunque el resto de compañía no tiene previsto empezar a usarlos en sus litografías hasta más adelante.
Este equipo ha salido de las instalaciones de ASML en Veldhoven (Países Bajos) y será instalado por la compañía en la fábrica de Intel de Hillsboro (Oregón, EUA). La instalación llevará meses, junto a las pruebas, y para su desplazamiento se precisarán de trece contenedores del tamaño de un camión y 250 cajas. La altura de la maquinaria cuando esté montada es de unos diez metros.
La máquina es una TWINSCAN EXE:5200, más las máquinas auxiliares, y es capaz de procesar 200 obleas por hora. Estas máquinas se usarán para poner en el mercado chips a 18 Å (1.8 nm) a mediados de 2025. Estas máquinas inciden un haz de mayor apertura numérica, 0.55 en lugar de 0.33, lo que permite una mayor intesidad del haz y es más fácil transferir los fotolitos a la oblea. Esto permite aumentar la resolución de los diseños y por tanto crear estructuras más pequeñas.
Vía: AnandTech.
