Intel Foundry ha despertado mucho interés en su proceso litográfico 18A, que ha empezado a llegar al mercado en los primeros procesadores, aunque no se generalizará hasta finales de año. Los Panther Lake que la usan, como parte de los Core Ultra 300, han recibido buenas críticas, sobre todo en el terreno del consumo. Así que poniendo la vista en lo que vendrá a continuación, Lip-Bu Tan ha indicado que oficialmente añaden al itinerario de la compañía las litografías 10A y 7A, que se corresponden con las de 1 nm y 0.7 nm.
Para ellas necesitará mejorar diversos apartados de los transistores, redoblando esfuerzos en el uso de la maquinaria de luz ultravioleta extrema de alta apertura numérica. Lo cual añadirá un sobrecoste adicional en la producción, que seguirá siendo la ventaja competitiva de TSMC porque la taiwanesa no ve la necesidad de usar todavía estos escáneres que cuestan 300 millones de dólares.
El comentario sobre el itinerario actualizado lo ha hecho Lip-Bu Tan en una conferencia de tecnología de JP Morgan Global. El director ejecutivo de la compañía ha insistido en que, para que Intel Foundry sea respetada, es muy importante cumplir con los plazos de desarrollo, y en el caso del itinerario de Intel es ambicioso pero realizable.
Sobre el de 14 nm (14A o 14 Å), Lip-Bu Tan ha dicho que en octubre tendrán listo el kit de desarrollo 0.9, previo a la finalización de la litografía para uso por terceros. «Tenemos varios clientes haciendo pruebas [con la litografía 14A] con los que estamos definiendo el tipo de producto que necesitan, la fábrica a usar con ellos, y la capacidad de producción […] No voy a decir los clientes, pero si quieren anunciarlo, les apoyaremos». Esta litografía no se espera que llegue al mercado hasta 2028, por lo que los siguientes (10A y 7A) serán para 2030 y 2032. Falta todavía cierto tiempo, pero encaja con los tres a cinco años que se necesitan para desarrollar y meter en producción una litografía que sea totalmente nueva.
Vía: Tom's Hardware.
